T1 銅と ASTM C10200 および C11000 の比較

中国の T1 銅は ASTM C10200 とほぼ同等ですほとんどのエンジニアリング アプリケーションで直接置き換えることができます。

違いはごくわずかです。どちらも無酸素銅の定義を満たしています（C10200 では酸素が 30 ppm 未満、T1 では 20 ppm 未満）。{1}現実世界のエンジニアリングでは、-これらの違いはパフォーマンスには影響しません.

1%の差は重要ですか？ほとんどすべてのアプリケーションでは、「いいえ」です。 1000 アンペアを伝送するバスバーは、T1 で作られた場合、発熱が約 1% 少なくなります。これはめったに目立ちません。

重要な場合:大電流の開閉装置、-効率が重要なシステム、または銅の熱限界を超えるアプリケーション-。購入者の95%にとって、T1 と C10200 は導電率に関して互換性があります.

どちらのグレードも、水素雰囲気、真空サービス、重要な溶接用途に対して安全です。わずかな組成の違いは溶接性能には影響しません。

アプリケーションで溶接や水素雰囲気への曝露が必要な場合は、T1 と C10200 の両方が完全に機能します。

はい、ほとんどのアプリケーションで可能です。

直接置換が機能するアプリケーション:

電気母線と開閉装置

変圧器巻線

溶接アセンブリ

真空ろう付け部品

極低温装置

熱交換器

接地システム

RFシールド

最初に確認する必要があるアプリケーション:

厳格な材料仕様を伴う航空宇宙または防衛契約

特定の ASTM{0}} のみの要件を持つ医療機器

最低 99.95% の認定を必要とするアプリケーション (T1 はこれを超えているため、問題ありません)

中国素材を明示的に禁止する顧客契約（技術的問題ではなく、商業的な問題）

C11000 がより一般的である理由:生産コストが安くなります。 0.07% 低い銅含有量と高い酸素含有量は、ほとんどの用途に許容されます。バスバー、接地、および一般的な電気工事では、C11000 が業界標準です。

T1 が要求の厳しいアプリケーションに適している理由:溶接、水素雰囲気の安全性、真空サービス、または最大の導電率が必要な場合、T1 は C11000 よりも優れた性能を発揮します。

その違いには意味があるのでしょうか？ほとんどのアプリケーションでは、いいえ。 100% IACS の C11000 はすでに優れています。 T1 の 1% の改善はほとんど目立ちません。

T1 の高い導電率が重要な場合:-密閉された筐体内の高電流バスバー、効率が重要な配電、またはあらゆる温度上昇が重要となる用途-。

C11000 が許容される場合:機械的接続のみ (ボルト締め、クランプ、または圧着)。溶接、水素雰囲気、真空サービスは不要です。

T1 は C10100 を置き換えることができますか?ほとんどのアプリケーションでは、そうです。 99.97% と 99.99% の純度の違いは、実際のパフォーマンスでは検出できません。-

本当に C10100 を必要とするアプリケーション:非常に特殊な半導体装置、特定の航空宇宙部品、およびあらゆる不純物原子が重要な超高真空システム。{0}}-他の皆さんにとっても、T1 で十分であり、コスト効率がはるかに優れています。-.

同じ材料に異なる名前がある理由:標準はさまざまな国によって独自に開発されています。両方の規格を満たす材料には 2 つの名前が付けられます。T1 と C10200 は同じタイプの材料（無酸素銅）ですが、規格限界がわずかに異なります。

1. 中国の T1 銅に相当する ASTM は何ですか?

中国の T1 銅は ASTM C10200 (無酸素銅) とほぼ同等です。{2} T1 の銅含有量は最低 99.97% ですが、C10200 の銅含有量は最低 99.95% です。どちらも酸素を含まず、酸素含有量は 20～30 ppm 未満です。-ほとんどのエンジニアリング アプリケーションでは、T1 はパフォーマンスに違いがなく、C10200 を直接置き換えます。

2. 中国の T1 銅は C10200 と同じですか?

まったく同じではありませんが、ほとんどのアプリケーションには十分近いものです。仕様は若干異なります。T1 には最低 99.97% の銅が必要ですが、C10200 には最低 99.95% の銅が必要です。 T1 では、わずかに高い酸素が許容されます (一部の C10200 仕様では 20 ppm に対して 10 ppm)。実際のパフォーマンスでは、アプリケーションの 95% ではこれらの違いは問題になりません。-

3. C10200 の代わりに中国の T1 を使用できますか?

はい、ほとんどのアプリケーションで可能です。電気バスバー、変圧器巻線、溶接アセンブリ、真空ろう付け、極低温装置、熱交換器はすべて、C10200 ではなく T1 で完全に機能します。唯一の例外は、ASTM 認定の材料を明示的に要求する契約や、絶対的に厳しい酸素制限 (10 ppm 未満) を必要とする用途です。{3}}

4. C11000 の代わりに中国の T1 を使用できますか?

はい、でもそれはやりすぎです。 T1 は純度が高く (99.97% 対 99.90%)、酸素を含まない-が、C11000 はそうではありません。 C11000 のパフォーマンスが必要な場合は、T2 銅 (99.90%) が直接的でコスト効率の高い代替品となります。-無酸素特性や溶接性も必要な場合にのみ、C11000 の代わりに T1 を使用してください。-

5. T1 は C11000 より優れていますか?

要求の厳しいアプリケーションの場合は可能です。 T1 は、より高い純度、より高い導電性 (100% IACS に対して 101% IACS 以上)、水素脆化のリスクがなく、優れた溶接性を備えています。 C11000 が正常に動作する標準的な電気工事の場合、T1 の方が「優れている」わけではありません -。コストがかかるだけで、測定可能なメリットはありません。 「より良い」かどうかはアプリケーションによって異なります。

6. T1 は C10200 のように酸素を含まないのですか?{2}

はい、T1 は無酸素銅として分類されています-。中国の規格 GB/T 5231 では、T1 の酸素含有量が 0.002% (20 ppm) 未満であることが求められています。 ASTM C10200 では、一部の仕様では 0.001% (10 ppm) 未満の酸素が必要ですが、他の仕様では最大 0.003% (30 ppm) まで許容されます。どちらも無酸素銅の国際定義を満たしています。-

7. T1 と C10100 の違いは何ですか?

純度。 C10100 では、最低 99.99% の銅と 5 ppm 未満の酸素が必要です。 T1 では、最低 99.97% の銅と 20 ppm 未満の酸素が必要です。ほとんどのアプリケーションでは、この違いは問題になりません。特定の半導体や航空宇宙部品などの非常に要求の厳しいアプリケーションでは、C10100 が必要になる場合があります。{10}お客様が本当に 99.99% の純度を必要とする場合、T1 は C10100 の直接の代替品ではありません。

11. T1 は真空ろう付け用に C10100 の代わりに使用できますか?

ほとんどの真空ろう付け用途では、はい。真空ろう付けの性能では、純度 99.97% と 99.99% の違いは検出できません。ただし、一部の超-高-真空システムまたは航空宇宙仕様では、明示的に C10100 が必要です。お客様の仕様を確認してください。 「C10100 または同等品」と記載されている場合は、T1 が該当します。 「C10100 のみ」と表示されている場合は、そうではありません。

サードパーティによる検査が利用可能:-お客様のご要望に応じて、SGS、BV、またはその他の認定された第三者。